半导体行业对清洗剂的要求是所有工业领域中最严格的。即使微米级颗粒或ppb级离子污染，都可能导致芯片良率大幅下降。
关键指标
1.颗粒物控制：≥0.5μm颗粒数控制在25个/mL以下（SEMI标准），高端制程≤10个/mL。2.金属离子含量：每种金属离子控制在1-10ppb级别。3.氯离子含量：控制在10ppb以下。4.NVR（非挥发性残留物）：要求≤1μg/cm²。
探索化工的半导体级产品
TS-100精密电子碳氢清洗剂经SGS检测，金属离子总量<5ppb，颗粒物(<0.5μm)<15个/mL，NVR<0.5μg/cm²，完全满足半导体封装和PCB高端制造的洁净度要求。